专利回避设计通常被视作一种风险规避手段，用于在商业运营中绕开他人布下的专利障碍，以保障商业运营的正常进行。因此，业界对专利回避设计的讨论多从专利保护范围的确定、专利侵权判定原则等方面着手，更多地从技术特征的减少和变更等角度予以原则性的说明，少有文献提到具有可操作性的专利回避设计的技法。

    近年来，越来越多的市场主体意识到可以将专利回避设计作为一种技术创新手段而加以利用。笔者认为，这是一种值得鼓励和提倡的思考问题的方式，也更能体现专利制度“公开换保护”的基本原理。通过对现有专利文献所披露的技术内容的借鉴，来提高创新能力，有利于专利法立法目的“促进科学技术进步和经济社会发展”的实现。

    有鉴于此，本文对专利回避设计在实务中可能的若干技法展开探讨。

    专利回避设计之基本要求

    根据专利侵权判定的全面覆盖原则和等同原则，从技术特征比对的思路出发，现有文献中经常会提到回避设计的规则：至少减少独立权利要求中一个必要技术特征；或者替换独立权利要求中至少一个必要技术特征。需要指出的是，这两种规则是原则性的，没有给出如何减少或者如何替换的方法论，因此在可操作性上是有不足的。

    可以理解，专利回避设计的前提是拟回避的目标专利产品是具有市场前景的，相对于市场上旧的产品来说，可能是具备新的功能，可能是性能相对优良，也可能是成本相对低廉。通常，人们希望回避设计的成果也是具有商业价值的方案。如果成功避开专利保护范围的回避设计成果不具备目标专利产品相应的技术效果或商业价值，可能整体来说这个回避设计也是没有意义的。

    总之，成功的专利回避设计既要求能规避侵权风险，也要求能具备足够的市场竞争力。

    回避设计技法之针锋相对

    所谓针锋相对，主要是从技术问题的角度提出的技法。通过分析目标专利所解决的技术问题，尝试采用与目标专利权利要求保护的技术方案不同的手段来解决该技术问题，如能成功解决技术问题，则意味着有新的回避设计方案产生。

    例如，触摸屏手机没有按键，无法按照键盘手机的组合键方式来解锁，面对这一技术问题，有专利提出滑动图标来解锁的技术方案。为进行回避，后来出现了通过在九宫格上画出手势来解锁的技术方案。也就是说，面对解锁手机的技术问题，提出与目标专利的技术方案针锋相对的另一种或多种技术方案。

    此种技法，要求通过对目标专利的解读和分析，理清其发明思路，精确界定其所解决的技术问题，寻找解决技术问题的手段和措施，通过研发出与目标专利权利要求不同的技术方案，自然达到至少减少独立权利要求中一个必要技术特征或者替换独立权利要求中至少一个必要技术特征的效果，从而达到回避专利保护范围的目的。

    回避设计技法之另辟蹊径

    所谓另辟蹊径，主要是从技术矛盾的角度提出的技法。当面对目标专利所要解决的技术问题难以直接找到与其针锋相对的技术方案时，可以比对分析目标专利及其背景技术，确定目标专利的技术方案相对于背景技术所改变的技术参数，确定这些技术参数之间的技术矛盾，从而针对性采用一定的发明原理来解决这个技术矛盾，以产生回避设计的成果。

    例如，目标专利是一种射击训练用的靶标，为提高射击训练的效率，该靶标的体积设计得足够大，为避免靶标被击中后碎片四溅而难以清扫且存在一定的安全隐患，靶标中间设置了一层粘连层，使得靶标主体破碎后依然可以固着在该粘连层上。采用另辟蹊径的技法，则可以发现背景技术中存在的技术矛盾主要是运动物体的体积（靶标占有的空间体积）和时间损失（清扫靶标碎片所需要花费的时间）这一对技术参数之间的矛盾，体积大则时间损失多，时间损失小则体积小。

    进一步分析发现，目标专利采用的是预先作用的发明原理来解决这一技术矛盾的，即在方便的位置（靶标中间夹层处）预先安置物体（粘连层），使其在最适当的时机（被射中而破碎时）发挥作用而不浪费清扫时间。

    与此相对地，设计人员可以另辟蹊径，利用抽取、多用性、抛弃/再生这三个发明原理来解决这一技术矛盾，从而得到回避设计的成果。具体地，当采用抽取原理时，可以抽取出靶标用于指引射击运动员的性能，采用光学靶标来生成光学的射击目标，捕捉运动员射击时产生的光学信号，通过图像处理的技术判断运动员是否射中，从而从根本上克服靶标碎片带来的清扫问题。当采用多用性原理时，可以采用具有其它用途（例如可用于增强射击场地的物理性能）的材料来制作靶标，使得碎片散落在射击场地时可以发挥其第二用途，从而无需清扫靶标碎片。当采用抛弃/再生原理时，可以采用对环境无害而无需清扫的材料制作靶标，从而在靶标被击中破碎后，不需花费清扫时间。

    与针锋相对技法类似，另辟蹊径技法中，在产生回避设计方案的过程中也不是从目标专利的技术特征出发来进行技术构思，在产生方案后才与目标专利权利要求进行技术特征的比对，以判断能否有效地消除或克服潜在的侵权风险。

    回避设计技法之更上层楼

    所谓更上层楼，主要是从物理矛盾的角度提出的技法。所谓物理矛盾，是指一个技术系统中，由表述系统性能的同一个参数具有相互排斥（相反的或不同的）需求所构成的矛盾。例如，现在手机制造要求整体体积设计得越小越好，便于携带，同时又要求显示屏和键盘设计得越大越好，便于观看和操作，所以对手机的体积设计要求具有大、小两个方面的趋势，这就是手机设计的物理矛盾。

    实践中，也会发现有些目标专利相对于其背景技术而言，解决的并不是不同技术参数之间的技术矛盾，而是同一技术参数之间的物理矛盾。此时，就需要用到更上层楼的回避设计技法。

    例如，目标专利是一种检测方法，用于具有三明治结构的产品的检测。该产品中，两个表面层之间夹有中间层，用于加强表面层对抗外界应力的强度，在产品出厂检测时，其中一个检测项目是判断产品中是否添加了中间层。为此，目标专利披露了一种采用X射线进行检测的方法。该方法的实施需要用到复杂的检测设备，还需要对检测人员进行专门的培训。

    经过对目标专利的分析，可以发现其解决的是表面层的强度和检测便捷性之间的矛盾，可以认定是时间矛盾，即检测时需要表面层能够不干扰对中间层的观察，而使用时表面层又要具备足够的强度，不同的时间条件下需要该产品满足不同的要求。

    针对该物理矛盾，在回避设计可以采用组合原理，将检测功能组合到表面层上。具体地，可以在表面层上开设直达中间层的微小开口，使得检测人员能够用肉眼直接观察，以判断在产品中是否添设了中间层。

    总之，更上层楼是跳出目标专利在技术细节上的思考，直接抓住目标专利所解决的背景技术中的物理矛盾，从而使得技术人员可以在更高的层面上进行技术研发，进而得到具有市场竞争力的可规避目标专利保护范围的回避设计成果。

    回避设计技法之变废为宝

    所谓变废为宝，主要是从专利瑕疵的角度提出的技法。此种技法已有不少现有文献提及，主要是根据专利侵权判定的捐献原则和禁止反悔原则，利用目标专利在授权确权程序中的瑕疵，直接使用专利文献中披露而未记载到权利要求中的技术方案或明确排除在目标专利的专利保护范围之外的技术方案，或者在这些技术方案的基础上研发替代技术，而不至于有侵权风险。

    笔者此前参与处理的一些专利侵权诉讼中，也不时会碰到过此类回避设计的成功案例。由于此种技法已有较多文献涉及，此不赘述。

    以上简单介绍了专利回避设计中的四种基本技法。实践证明，合理地运用这些基本技法，可以有效地促进技术创新工作。当然，也希望有更多的业界同仁一起参与探讨，不断地推陈出新，共同提高创新水平。